お知らせ - 酸化グラフェン研究会

第3回活動報告3rd GO symposium　report

第3回　酸化グラフェンシンポジウム

　第3回　酸化グラフェンシンポジウムは、たくさんの方のご参加とともに、大盛況のうちに終了しました。

平成26年12⽉18⽇（木）10:00~17:30
場所：東京工業大学キャンパス・イノベーションセンター

＜プログラム＞
10:00-10:05　開会の時　松本会長

招待講演
1. 10:05-10:40　斉木幸一朗（東京大）
　　　　　　　「酸化グラフェンの還元と窒素ドープ」

2. 10:40-11:15　江田剛輝（シンガポール国立大）
　　　　　　　「酸化グラフェンの電気伝導と光物性」

3. 11:15-11:50　依光英樹（京都大）
　　　　　　　「原子層分子の精密有機合成」

（休憩)

4. 13:10-13:45　長谷川正治（グラフェンプラットフォーム）

5. 13:45-14:20　山田泰弘（千葉大）
　　　　　　　「グラフェン錯体」

（休憩)

6. 14:40-15:15　速水真也（熊本大）
　　　　　　　「グラフェンハイブリッドに基づいた機能創発」

7. 15:15-15:35　博士学生　立石光　（熊本大）
　　　　　　　「最近のGO研究に関するレビュー」

16:00-17:00　ポスター発表

　シンポジウムで発表されたスライドは、会員様のみ閲覧することができます。左上の「講演資料」のリンクよりご覧ください。

このページの先頭へ

第3回活動報告3rd GO symposium report

第3回 酸化グラフェンシンポジウム

ナビゲーション

酸化グラフェン研究会

第3回活動報告3rd GO symposium　report

第3回　酸化グラフェンシンポジウム