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第２回活動報告2nd GO symposium　report

第２回　酸化グラフェンシンポジウム

　第2回　酸化グラフェンシンポジウムは、たくさんの方のご参加とともに、大盛況のうちに終了しました。

平成26年6⽉24⽇（火）10:30~18:00
場所：熊本大学 工学部百周年記念館

プログラム
1. 10:30-11:30　酸化グラフェン研究会総会（会員のみ）

2. 11:30-12:30　Manish Chhowalla (Rutgers University, USA)
　　　　　　　　“Chemistry and Physics of Graphene Oxide."

3. 13:30-14:05　松田一成（京都大学）
　　　　　　　　“ナノカーボン物質
　　　　　　　　　　　（酸化グラフェン・グラフェンナノ構造）の光科学”

4. 14:05-14:35　坂口幸一（佐賀大学）
　　　　　　　　“高溶媒親和性グラフェン誘導体の合成と分散性の評価”

5. 14:35-15:05　小幡誠司（東京大学）
　　　　　　　　“金属基板を用いた酸化グラフェンからのグラフェン生成”

6. 15:15-15:45　松本泰道（熊本大学）
　　　　　　　　“酸化グラフェンの官能基工学 ”

7. 15:45-16:15　井原敏博（熊本大学）
　　　　　　　　“酸化グラフェンとDNAの相互作用に関する基礎的研究
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　および遺伝子センサーへの応用”

8. 16:15-16:35　畠山一翔（熊本大学）
　　　　　　　　“酸化グラフェン研究の最新動向”

　 16:35-18:00　ポスターセッション
　 18:00-20:00　懇親会　［フォリコ(工学部キャンパス内)］


　シンポジウムで発表されたスライドは、会員様のみ閲覧することができます。左上の「講演資料」のリンクよりご覧ください。

























































酸化グラフェン研究会

〒860-8555　熊本県熊本市中央区黒髪２丁目３９-１
TEL : 096-342-3678
FAX : 096-342-3679
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