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第21回酸化グラフェンナノシートシンポジウムのお知らせLatest report

第21回酸化グラフェンナノシートシンポジウム 開催要項

 第21回酸化グラフェンシンナノシートシンポジウムは対面およびオンラインにて開催致します。詳細は以下をご覧ください。

主催:酸化グラフェンナノシート学会
後援:日本化学会
会期:令和6年6月 7日(金)
会場:
株式会社日本触媒 吹田地区研究所およびオンライン開催
〔住所〕〒564-0034 大阪府吹田市西御旅町5-8
〔交通〕JR「吹田駅」より徒歩20分
    阪急電鉄「上新庄駅」より徒歩10分
発表申込締切:令和6年5月22日(水)
予稿原稿締切:令和6年5月29日(水)予稿原稿テンプレート
参加登録予約申込締切:令和6年5月 31日(金)
発表形式:招待講演・口頭発表・ポスター発表


要旨集は
こちらからダウンロードできます。

招待講演および口頭発表は対面とZoomによるハイブリッド形式にて、ポスター発表は対面にて実施致します。 招待講演後の口頭発表者およびポスター発表者を募集しております。なお、口頭発表は現地で発表される方を優先し、多数のご応募があった際はポスター発表に変更していただく場合がございますので、予めご了承ください。 詳細はお申し込み後に別途ご連絡致します。発表内容は、酸化グラフェンをはじめとする炭素材料や、金属ナノシート等の二次元材料に関するものとします。

<プログラム>

  9:30-    総会

 10:15-    開会

 10:30-11:10  村松 佳祐 先生(信州大学)
       「無機ナノシートの形態制御に有効な新規合成経路の開発」

 11:10-11:50  粟屋 恵介 先生(熊本大学)
       「層状結晶の剥離によるナノシート化技術の進展」
 
 11:50-    昼休み

 12:30-14:00  ポスターセッション

 14:00-14:40  大塚 隼人 先生(信州大学)
       「酸化グラフェンの3状態」

 14:40-15:20  森山 教洋 先生(広島大学)
       「低次元材料からなる薄膜の水蒸気/ガス分離への応用」

 15:20-15:30 休憩

 15:30-16:10  竹中 壮 先生(同志社大学)
       「酸化グラフェンを利用したPEFC用高活性・高耐久
        Ptカソード触媒の開発」 

 16:10-16:30 清永つかさ 様(株式会社NSC)貢献賞受賞講演
       「高品質酸化グラフェン水分散液の大量生産」         
 16:30-17:10  仁科 勇太 先生(岡山大学) リサーチレビュー
       「二次元材料の産業応用展開の現状」   

 17:10-    閉会

 18:30-    懇親会

     
<懇親会>
別途ご連絡致します。
懇親会の参加申し込みは、下記の<参加登録予約・発表申込方法>に記載の"Googleアンケート"よりお願い致します。
※先着20名様となりますので、お早めにお申し込みください。
     
<参加登録費>
大学関係者:無料
法人会員:無料(何名様でも参加可能です)
非法人会員:5万円

<参加登録予約・発表申込方法>
こちら
からご応募ください。(Googleアンケート)

【申込先/お問合せ先】
gokenkyu@kumamoto-u.ac.jp

































































酸化グラフェンナノシート学会

〒860-8555 熊本県熊本市中央区黒髪2丁目39-1
TEL : 096-342-3385
FAX : 096-342-3385
E-mail:gokenkyu*kumamoto-u.ac.jp

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