第20回酸化グラフェンナノシートシンポジウムのお知らせLatest report
第20回酸化グラフェンナノシートシンポジウム 開催要項
第20回酸化グラフェンシンナノシートシンポジウムは対面およびオンラインにて開催致します。詳細は以下をご覧ください。主催：酸化グラフェンナノシート学会
後援：日本化学会
会期：令和5年12月 8日（金）
会場： TKPカンファレンスセンター松山およびオンライン開催
〔住所〕〒790-0011 愛媛県松山市千舟町4-3-7 青野ビル2階・4階・５階
（事務所：４階）
〔交通〕松山市駅より徒歩３分
発表申込締切：令和5年11月22日（水）
予稿原稿締切：令和5年11月29日（水）予稿原稿テンプレート
参加登録予約申込締切：令和5年12月 1日（金）
発表形式：招待講演・口頭発表・ポスター発表
要旨集はこちらからダウンロードできます。
招待講演および口頭発表は対面とZoomによるハイブリッド形式にて、ポスター発表は対面にて実施致します。 招待講演後の口頭発表者およびポスター発表者を募集しております。なお、口頭発表は現地で発表される方を優先し、多数のご応募があった際はポスター発表に変更していただく場合がございますので、予めご了承ください。 詳細はお申し込み後に別途ご連絡致します。発表内容は、酸化グラフェンをはじめとする炭素材料や、金属ナノシート等の二次元材料に関するものとします。
＜プログラム＞
10:00- 開会
10:10-10:50 成田 明光 先生（沖縄科学技術大学院大学）
「グラフェン量子ドットの精密合成と多彩な物性」
10:50-11:30 佐野 航季 先生（信州大学）
「二次元物質の配列制御と機能性ソフトマテリアルへの展開
11:30- 昼休み
12:30-14:00 ポスターセッション
14:00-14:40 山本 瑛祐 先生（名古屋大学）
「固体界面活性剤鋳型法による新しい二次元材料合成」
14:40-15:10 佐々木 毅 先生（産業技術総合研究所）
「産総研 材料・化学領域におけるCVDグラフェンに関する
最近の研究開発の紹介」
15:10-15:20 休憩
15:20-16:00 山田 泰弘 先生（千葉大学）
「炭素材料における5員環、SOLO、ピリジニック窒素、
ピローリック窒素、第3級窒素の構造制御」
16:00-16:40 津川 樹 さん（熊本大学）
「酸化グラフェンの最新の研究動向」
16:40- 閉会
18:00- 懇親会
＜懇親会＞
別途ご連絡致します。
懇親会の参加申し込みは、下記の<参加登録予約・発表申込方法>に記載の"Googleアンケート"よりお願い致します。
※先着20名様となりますので、お早めにお申し込みください。
<参加登録費>
大学関係者：無料
法人会員：無料(何名様でも参加可能です)
非法人会員：5万円
<参加登録予約・発表申込方法>
こちらからご応募ください。(Googleアンケート)
【申込先/お問合せ先】
gokenkyu@kumamoto-u.ac.jp
酸化グラフェンナノシート学会
〒860-8555 熊本県熊本市中央区黒髪２丁目３９-１
TEL : 096-342-3385
FAX : 096-342-3385
E-mail:gokenkyu*kumamoto-u.ac.jp